Diffraction de rayons X haute résolution et de texture - La plate-forme Osirix

Osirix est une plate-forme de diffraction des rayons X haute résolution et de texture de l'Université de Rennes1 créée en 2020.
La plate-forme est équipée d'un diffractomètre Smartlab Rigaku 5-cercles. Son rôle est de mettre à la disposition des utilisateurs, les services en personnel et les moyens techniques nécessaires à l'étude, en diffraction des rayons-X haute résolution et de texture, d’échantillons sous forme de couches minces et de poudres.
Les services d'Osirix sont ouverts à l’ensemble des laboratoires de l’Université de Rennes 1, des laboratoires publics et privés extérieurs, ainsi qu’aux entreprises.
Les utilisateurs s'engagent à mentionner dans leurs travaux, rapports ou publications l'origine des résultats réalisés sur la plate-forme.

• Identification de phases cristallisées dans une couche mince polycristalline (à partir de 10 nm d'épaisseur) et mesure des paramètres de maille par diffraction en incidence rasante (GID).
• Identification des orientations préférentielles de couches minces orientées et mesure des paramètres de maille hors du plan et dans le plan (2theta/omega scan et 2theta/phi scan in plane).
• Mesure de la mosaïcité hors du plan et dans le plan (rocking-curves, rocking-curve in-plane).
• Détermination des relations d’épitaxie entre une couche mince et un substrat (phi-scan).
• Détermination des contraintes d'épitaxie (cartographie du réseau réciproque dans et hors du plan).
• Détermination des textures d'une couche mince ou d'une tôle mince (figure de pôles).
• Détermination des états de contraintes résiduelles d’une couche mince orientée ou polycristalline (stress, méthode des sin²psi).
• Mesure d'épaisseur et de densité de couches minces stratifiées par réflectométrie des rayons X.
• Identification de phases cristallisées dans une poudre.